|
|
| الاسم التجاري: | ZMSH |
| الـ MOQ: | 10 |
| وقت التسليم: | 2-4 أسابيع |
| شروط الدفع: | تي/تي |
تتميز هذه المكونات الخزفية المصنوعة من كربيد السيليكون بتصميم لوح دائري مع حافة متدرجة مشكلة بدقة. يتيح الهيكل المتدرج تحديد المواقع المحورية بدقة ودمجًا مستقرًا في غرف عمليات أشباه الموصلات والأنظمة الحرارية المتقدمة.
تم تصنيع هذا المكون من سيراميك SiC عالي النقاء، ويوفر مقاومة ممتازة لدرجات الحرارة المرتفعة، والتعرض للبلازما، والتآكل الكيميائي، والصدمات الحرارية. تُترك السطح غير مصقول عن قصد، حيث تم تصميم المكون للاستخدام الوظيفي والإنشائي بدلاً من التطبيقات البصرية أو الإلكترونية.
تشمل الاستخدامات النموذجية أغطية الغرف، وأغطية البطانات، وألواح الدعم، والمكونات الهيكلية الواقية في معدات تصنيع أشباه الموصلات حيث تكون الاستقرار الأبعاد على المدى الطويل وموثوقية المواد أمرًا بالغ الأهمية.
مادة سيراميك كربيد السيليكون عالية النقاء
تصميم الحافة المتدرجة لتحديد المواقع والتجميع بدقة
سطح مطحون وغير مصقول مُحسّن للأداء الوظيفي
استقرار حراري ممتاز وتشوه حراري منخفض
مقاومة فائقة للبلازما والمواد الكيميائية والغازات المسببة للتآكل
قوة وصلابة ميكانيكية عالية
مناسب لبيئات الفراغ والعمليات النظيفة
أبعاد وهندسات مخصصة متاحة
| المعلمة | المواصفات |
|---|---|
| المادة | كربيد السيليكون (SiC) |
| النقاء | ≥ 99% (نموذجي) |
| الكثافة | 3.10 – 3.20 جم/سم³ |
| الصلابة | ≥ 2500 HV |
| قوة الانحناء | ≥ 350 ميجا باسكال |
| معامل المرونة | ~410 جيجا باسكال |
| التوصيل الحراري | 120 – 200 واط/م·ك |
| معامل التمدد الحراري (CTE) | ~4.0 × 10⁻⁶ /ك |
| أقصى درجة حرارة تشغيل | > 1600°C (في جو خامل) |
| أقصى درجة حرارة تشغيل (هواء) | ~1400°C |
| المقاومة الكهربائية | عالية (درجة عازلة متاحة) |
| تشطيب السطح | مطحون / غير مصقول |
| التسطيح | تفاوت مخصص متاح |
| حالة الحافة | مشطوفة أو محددة من قبل العميل |
| توافق البيئة | الفراغ، البلازما، الغازات المسببة للتآكل |
ملاحظة: قد تختلف المعلمات اعتمادًا على درجة SiC وطريقة التشكيل ومتطلبات التشغيل الآلي.
غرف عمليات أشباه الموصلات (CVD، PECVD، LPCVD، أنظمة الحفر)
أغطية الغرف وأغطية البطانات
ألواح الدعم الهيكلية في المعدات ذات درجة الحرارة العالية
المكونات الخزفية المواجهة للبلازما أو المجاورة للبلازما
أنظمة المعالجة بالفراغ المتقدمة
أجزاء هيكلية خزفية مخصصة لمعدات أشباه الموصلات والإلكترونيات الضوئية
قطر خارجي وسمك مخصص
ارتفاع وعرض خطوة مخصص
طحن أو تلميع اختياري عند الطلب
التشغيل الآلي وفقًا لرسومات أو عينات العميل
دعم الإنتاج بكميات صغيرة، ونماذج أولية، وإنتاج بكميات كبيرة
ج:
يُستخدم هذا المكون في المقام الأول كجزء سيراميكي هيكلي أو وظيفي، مثل غطاء الغرفة أو لوحة الدعم أو غطاء البطانة، في معدات العمليات لأشباه الموصلات ودرجات الحرارة المرتفعة. يسمح التصميم المتدرج بتحديد المواقع الدقيقة والتجميع المستقر داخل هياكل المعدات.
ج:
السطح غير المصقول مقصود. لا يُستخدم هذا المكون للوظائف البصرية أو الإلكترونية، ولكن للأغراض الهيكلية والوقائية. الأسطح المطحونة كافية وغالبًا ما تكون مفضلة لتحسين الاستقرار الميكانيكي وتقليل تكلفة التصنيع في تطبيقات غرفة العمليات.
ج:
نعم. يوفر كربيد السيليكون مقاومة ممتازة لتآكل البلازما والتآكل الكيميائي، مما يجعله مناسبًا للتطبيقات المواجهة للبلازما أو المجاورة للبلازما في غرف عمليات أشباه الموصلات.
ج:
نعم. المادة وعملية التصنيع متوافقة مع بيئات الفراغ. يُظهر سيراميك SiC انبعاثًا منخفضًا للغاز ويحافظ على الاستقرار الأبعاد في ظل ظروف الفراغ والدوران الحراري.
ج:
بالتأكيد. يمكن تخصيص القطر الخارجي والسمك وارتفاع الخطوة وعرض الخطوة وميزات الحافة جميعها وفقًا لرسومات العميل أو متطلبات التطبيق.
ج:
يمكن توفير التشطيب السطحي الاختياري، بما في ذلك الطحن الدقيق أو التلميع، عند الطلب. قد تكون الطلاءات متاحة أيضًا اعتمادًا على التطبيق وبيئة التشغيل.
ج:
يُستخدم هذا النوع من مكونات سيراميك SiC بشكل شائع في تصنيع أشباه الموصلات، والإلكترونيات الضوئية، وأنظمة الفراغ المتقدمة، ومعدات المعالجة الصناعية ذات درجة الحرارة العالية.
فيديو
